TSMC فرایند N4P را با بهبود در عملکرد و مصرف بهینه‌تر انرژی نسبت به فرایند پنج نانومتری معرفی کرد
شرکت TSMC امروز فرایند N4P خود را معرفی کرد؛ فرایندی که می‌توان آن را یک بهبود متمرکز روی عملکرد پلتفرم فناوری پنج نانومتری دانست. N4P به پیشرفته‌ترین و گسترده‌ترین مجموعه فرایندهای فناوری پیشرو در صنعت خواهد پیوست. با ارائه‌ی N4P در کنار فرایندهای N3، N4 و N5، مشتریان این شرکت گزینه‌های متعدد و قانع‌کننده‌ای برای قدرت، عملکرد، ابعاد و هزینه‌ی محصولات خود در دسترس خواهند داشت.
به گزارش ویدئو کاردز، فرایند N4P به‌عنوان سومین پیشرفت بزرگ خانواده‌ی پنج نانومتری TSMC محسوب می‌شود. عملکرد این فرایند نسبت به فناوری اصلی پنج نانومتری این شرکت ۱۱ درصد و نسبت به فناوری چهار نانومتری آن، ۶ درصد بهبود یافته است. N4P همچنین از نظر راندمان انرژی نسبت به فناوری‌های چهار و پنج نانومتری TSMC حدود ۲۲ درصد بهتر عمل می‌کند و علاوه‌بر این، تراکم ترانزیستورها روی آن ۶ رصد بهبود یافته است.
N4P همچنین پیچیدگی‌ها فرایند را کاهش می‌دهد و زمان چرخه‌ی ویفر را با کاهش تعداد ماسک‌ها، بهبود می‌بخشد. این فرایند جدید، نتیجه‌ی تلاش‌ها و سرمایه‌گذاری‌های TSMC را روی بهبود مستمر فناوری‌های پردازشی به‌خوبی نشان می‌دهد.
مشتریان TSMC اغلب منابع گران‌بهایی را برای توسعه‌ی آی‌پی‌ها، معماری‌ها و سایر نوآوری‌ها سرمایه‌گذاری می‌کنند. فرایند N4P برای انتقال آسان محصولات مبتنی بر پلتفرم پنج نانومتری طراحی شده است که مشریان را قادر می‌سازد علاوه بر به‌حداکثر رساندن سرمایه‌گذاری خود، محصولاتی با عملکرد بهتر و بهینه‌تر ارائه دهند.
N4P مجموعه فناوری‌های نیمه‌رسانای پیشرفته را بهبود می‌بخشد. این فرایند جدید برای ارائه‌ی یک پلتفرم پیشرفته در گوشی‌های هوشمند و HPC بهینه‌سازی شده است. دکتر کوین ژانگ، معاون ارشد توسعه‌ی کسب‌وکار در TSMC اعلام کرده که اکنون مشتریان این شرکت گزینه‌های بسیار خوبی در دسترس دارند که بهترین ترکیب از ویژگی‌ها را برای محصولات آن‌ها در بر خواهد داشت.
طراح‌های N4P روی اکوسیستم طراحی جامع TSMC برای آی‌پی سیلیکونی و EDA پشتیبانی می‌شوند. انتظار می‌رود اولین محصولات مبتنی بر فناوری N4P با همکاری TSMC و شرکای تجاری Open Innovation Platfrom، تا نیمه‌ی دوم سال ۲۰۲۲ روانه‌ی بازار شوند.
نظر شما در مورد فرایند N4P چیست؟
