کانن تولید پردازنده ۲ نانومتری را برای چین ممکن می‌کند؟

فقط یک شرکت در جهان توانایی ساخت تجهیزات EUV (لیتوگرافی فرابنفش شدید) را دارد. این دستگاه که ابعادی در حد اتوبوس دارد برای حک الگوهای مدار نازک‌تر از موی انسان روی ویفر سیلیکونی استفاده می‌شود. این شرکت هلندی، ASML نام دارد که سال گذشته حدود ۲۶ میلیارد دلار درآمد داشت. ماشین‌های EUV برای تولید تراشه‌های زیر ۷ نانومتر ضروری هستند؛ زیرا برای جا دادن میلیاردها تزانزیستور روی تراشه‌های پیشرفته، باید خطوط بسیار ظریفی حکاکی کنید.

هفته‌ی گذشته، کانن (Canon) فناوری لیتوگرافی نانوایمپرینت (NIL) را برای تولید تراشه‌های ۵ نانومتری معرفی کرد. TSMC و سامسونگ از دستگاه‌های EUV برای ساخت تراشه‌های مبتنی‌بر فرایند ۳ نانومتری استفاده می‌کنند و این تجهیزات به‌زودی امکان تولید پردازنده ۲ نانومتری را نیز ارائه خواهند داد. هر دو تراشه‌ساز انتظار دارند تا سال ۲۰۲۵ تراشه‌های ۲ نانومتری تولید کنند.

کانن توضیحاتی درمورد تفاوت NIL ارائه داده است:

کانن می‌گوید با بهبود فناوری ماسک، NIL در نهایت می‌تواند به ساخت تراشه‌های ۲ نانومتری کمک کند. درحال‌حاضر این تکنولوژی می‌تواند الگوهای مدار را با حداقل پهنای خط ۱۴ نانومتری که معادل تولید تراشه‌های ۵ نانومتری است، حکاکی کند. طبق اعلام شرکت ژاپنی، انتظار می‌رود NIL از حداقل پهنای خط ۱۰ نانومتر پشتیبانی کند و این یعنی امکان ساخت تراشه با فرایند ۲ نانومتری را خواهد داشت. NIL می‌تواند توان مصرفی مورد نیاز برای ساخت تراشه را نیز کاهش دهد؛ زیرا به منبع نور با طول موج خاص نیاز ندارد.