قدم محکم برای تولید تراشه‌های فوق پیشرفته؛ ASML لیتوگرافی زیر ۲ نانومتر را توسعه می‌دهد

شرکت ASML و Imec همکاری پنج‌ساله‌ای را آغاز کرده‌اند که امکان دسترسی محققان به جدیدترین ابزارهای ASML را فراهم می‌کند. این همکاری بر توسعه‌ی فناوری‌های پردازشی زیر ۲ نانومتر تمرکز دارد و شامل تجهیزات پیشرفته‌ی لیتوگرافی High-NA و اندازه‌گیری و بازرسی می‌شود.

Imec به تجهیزات پیشرفته‌ی ASML ازجمله سیستم‌های لیتوگرافیTwinscan NXT (DUV) و Twinscan NXE (EUV با دیافراگم ۰٫۳۳) و Twinscan EXE (High-NA EUV با دیافراگم ۰٫۵۵) دسترسی خواهد داشت. ابزارهای اندازه‌گیری نوری YieldStar و سیستم‌های بازرسی پیشرفته نیز در تأسیسات این مرکز نصب خواهند شد.

به نوشته‌ی TomsHardware، تجهیزات AMSL در مرکز تحقیقاتی Imec در بلژیک و پروژه‌ی NanoIC اتحادیه‌ی اروپا مستقر خواهند شد تا به توسعه‌ی نسل بعد فناوری‌های پردازشی کمک کنند. در لیتوگرافی زیر ۲ نانومتر، ابزارها باید وضوح ۸ نانومتر را با یک‌ بار تابش نور ایجاد کنند و این‌ کار فقط با High-NA EUV امکان‌پذیر است.

محققان Imec و ASML پیش‌از این عمدتاً در تأسیسات تحقیقاتی ASML در هلند روی High-NA EUV کار می‌کردند؛ اما اکنون فناوری اشاره‌شده به‌طور مستقیم در تأسیسات تحقیقاتی Imec در بلژیک در دسترس خواهد بود. این اقدام موجب سرعت‌بخشیدن به تحقیقات و توسعه‌ی فناوری‌های جدید خواهد شد.

دسترسی Imec به فناوری High-NA EUV بخشی از پروژه‌ی Next Gen-7A (IPCEI22201) محسوب می‌شود که با حمایت مالی دولت هلند و در چهارچوب پروژه‌های مشترک اروپایی (IPCEI) تأمین شده است. این همکاری زمینه‌ی لازم برای توسعه‌ی پایدارتر و پیشرفته‌تر در صنعت نیمه‌رسانا را فراهم می‌کند.

ASML و Imec علاوه‌بر لیتوگرافی زیر ۲ نانومتر، در حوزه‌هایی مثل فناوری DRAM و فوتونیک سیلیکونی و بسته‌بندی پیشرفته همکاری خواهند کرد. این مشارکت گام بسیار مهمی در مسیر توسعه‌ی تراشه‌های فوق پیشرفته و پاسخ‌گویی به نیازهای فناوری‌های آینده محسوب می‌شود.